苏大维格300331微纳制造蓝图初绘 [复制链接]

苏大维格(300331)微纳制造蓝图初绘

东吴证券研究报告指出，非芯片级高精度光掩膜版等产品的推出，体现了公司基于激光光刻和微纳压印等平台技术的领先制造功力。另一方面，纳米协同创新中心成立，公司微纳制造的平台优势将随着中心这个大平台的稳步建设以及公司业内独家的国家地方联合工程中心的建设进一步得到强化。

　　柔性透明导电膜是近期最大看点。2013年7月3日公司获得透明导电膜专利授权，一举奠定了公司在中大尺寸触屏用透明导电膜的领先地位。公司基于纳米压印技术的银格透明柔性导电膜Metal Mesh具备低方阻、柔性、高透光性等特点，相较于其他Metal Mesh方案，公司产品实现电路一次成型，无需*光工艺，在中大尺寸导电膜材料应用上预期成本更有优势。

　　透明导电膜将是良好的开端，公司基于激光光刻和微纳压印技术打造的"研发团队-设备研制-应用开发"微纳创新平台国内顶尖，看好创新平台的产业孵化能力以及多元化拓展能力，公司的多项储备技术有望助力公司业绩实现多点开花。另一方面，公司近日发布股权激励方案草案，行权价格为44.16元，高价位确定行权价格，彰显管理层对公司长远发展的信心，维持"强烈推荐"评级。